机译:桶形反应器中外延硅化学气相沉积的模拟
机译:外延硅形成的化学气相沉积反应器的计算模型
机译:减压化学气相沉积煎饼反应器中硅选择性外延生长的生长速率与氧化物厚度和氧化物覆盖率的相关性
机译:工业转炉反应器中硅的沉积和掺入杂质的模拟
机译:流体动力学和反应器设计对金属有机化学气相沉积在硅衬底上氮化镓外延生长的影响。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:桶形反应器中外延硅化学气相沉积的模拟
机译:等离子体增强CVD(化学气相沉积)对硅的低温外延沉积